7月15日，由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局和世界知識(shí)產(chǎn)權(quán)組織共同評(píng)選的第二十一屆中國(guó)專利獎(jiǎng)?wù)桨l(fā)布授獎(jiǎng)決定，上海微電子公司發(fā)明專利“一種步進(jìn)光刻設(shè)備及光刻曝光方法（ZL201110241791.3）”榮獲第二十一屆中國(guó)專利優(yōu)秀獎(jiǎng)，這也是上海微電子公司獲得的第九項(xiàng)中國(guó)專利優(yōu)秀獎(jiǎng)。
上海微電子裝備(簡(jiǎn)稱SMEE)主要致力于半導(dǎo)體裝備、泛半導(dǎo)體裝備、高端智能裝備的開發(fā)、設(shè)計(jì)、制造、銷售及技術(shù)服務(wù)。公司設(shè)備廣泛應(yīng)用于集成電路前道、先進(jìn)封裝、FPD面板、MEMS、LED、Power Devices等制造領(lǐng)域。
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